第21届FINETECH JAPAN、第2届高功能膜技术展FilmTech Japan及第1届Photonix Expo＆Conference光综合技术展，2011年4月13日至15日于东京举行，展现全球平面显示技术最新技术发展趋势及产品。
虽然一个月前日本遭受前所未有的自然灾害，整体经济生活与企业运作均受到严重影响，但并不影响业内企业参与此次展会的热情，参展企业与专业观众均仅有小幅下滑。
据主办单位Reed Exhibitions Japan统计，本届展会参与人数达55300人（观众数量，非人次），展出面积42,710平方米，吸引来自全球20多个国家的850家参展厂商。针对展出规模庞大，主办单位2011年特别将LIGHTING JAPAN独立出来并提前于1月举行，4月中的展会则以FINETECH JAPAN、高功能薄膜技术展FilmTech Japan及Photonix Expo＆Conference光综合技术展为主，以期兼顾展会扩大与深入专业化发展的目标。
本届展会专设触摸屏展区和3D技术展区，以凸显平板显示领域最热门的技术潮流，而技术研讨会部分，则对OLED技术着墨甚多。
FINETECH JAPAN成为世界平板显示领域最重要展会的关键，在于主办单位Reed Exhibitions Japan对参展厂商均亲自拜访，并邀请领导大厂的关键人物及技术研发人员共同参与，及促进参与厂商深入互动等市场撮合机会，协助参展厂商创造最大商机。如今年展会新增设的“高功能薄膜展区”、“3D显示区”、“纳米压印技术展”、“触摸屏技术区”，均说明展会积极创新及满足产业与市场需求的努力成效。
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